本报讯（记者 张焱）近日，科友半导体碳化硅晶体生长车间传来捷报，该企业自主研发的电阻长晶炉再次实现突破，成功制备出多颗中心厚度超过80mm，薄点厚度超过60mm的导电型6英寸碳化硅单晶，这也是国内首次报道和展示厚度超过60mm的碳化硅原生锭毛坯，厚度是目前业内主流晶体厚度的3倍，单片成本较原来可降低70%。
　　哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司技术总监张胜涛告诉记者，物理气相传输（PVT）法生长碳化硅单晶具有质量可控、工艺成熟的优势，但晶体厚度一直是主要制约因素。而溶液法在提高晶体厚度方面表现突出，但是目前仍未能实现真正的产业化生产。
　　张胜涛介绍，科友半导体基于自研电阻炉，通过借鉴溶液法的部分理念，破除了溶液法才能生长高厚度晶体的限制，充分利用了PVT法单晶稳定生长的优势，将两种制备方法的优势成功结合到一起，成功制备出大厚度晶体。大厚度晶体的成功制备标志着科友半导体突破了大厚度碳化硅单晶生长的关键技术难题，向大尺寸碳化硅衬底低成本量产迈出了坚实一步，进一步彰显出电阻加热式长晶炉在替代传统感应炉、推动衬底成本持续降低方面的巨大潜力。（下转第二版）